光刻机分类按曝光方式主要分三类。
接触式曝光,掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当,设备简单。接近式曝光,掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙(Gap),Gap大约为0~200μm。投影式曝光,在掩膜板与光刻胶之间使用光学系统聚集光实现曝光。一般掩膜板的尺寸会以需要转移图形的4倍制作。如果按工序分又分为三种,掩模光刻机、蚀刻光刻机和LED光刻机。
光刻机九大类,跪求好心人,拉我一把!
光刻机分类按曝光方式主要分三类。
接触式曝光,掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当,设备简单。接近式曝光,掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙(Gap),Gap大约为0~200μm。投影式曝光,在掩膜板与光刻胶之间使用光学系统聚集光实现曝光。一般掩膜板的尺寸会以需要转移图形的4倍制作。如果按工序分又分为三种,掩模光刻机、蚀刻光刻机和LED光刻机。